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原子沉積係統在各個行業的具體應用

發布時間:2021-03-22      點擊次數:21
  原子沉積係統的原子層沉積技術由於其沉積參數的高度可控型(厚度、成份和結構)
 
  原子沉積係統,一開始稱為原子層外延(Atomic Layer Epitaxy,ALE),也稱為原子層化學氣相沉積(Atomic Layer Chemical Vapor Deposition,ALCVD)。原子層沉積是在一個加熱反應器中的襯底上連續引入至少兩種氣相前驅體物種,化學吸附的過程直至表麵飽和時就自動終止,適當的過程溫度阻礙了分子在表麵的物理吸附。
 
  可以沉積的材料包括:氧化物,氮化物,氟化物,金屬,碳化物,複合結構,硫化物,納米薄層等。
 
  半導體領域:
 
  晶體管柵極電介質層(高k材料),光電元件的塗層,晶體管中的擴散勢壘層和互聯勢壘層(阻止摻雜劑的遷移),有機發光顯示器的反濕塗層和薄膜電致發光(TFEL)元件,集成電路中的互連種子層,DRAM和MRAM中的電介質層,集成電路中嵌入電容器的電介質層,電磁記錄頭的塗層,集成電路中金屬-絕緣層-金屬(MIM)電容器塗層。
 
  納米技術領域:
 
  中空納米管,隧道勢壘層,光電電池性能的提高,納米孔道尺寸的控製,高高寬比納米圖形,微機電係統(MEMS)的反靜態阻力塗層和疏水塗層的種子層,納米晶體,ZnSe塗層,納米結構,中空納米碗,存儲矽量子點塗層,納米顆粒的塗層,納米孔內部的塗層,納米線的塗層。
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